Sparse Conv GPIS

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稀疏卷积实现高斯过程隐式曲面

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应用介绍

高斯过程隐式曲面能表达带不确定性的形状,但计算量随点数急剧增长,难以用于实际渲染。这个项目是达特茅斯学院 SIGGRAPH Asia 2025 论文的实现,用稀疏卷积让高斯过程隐式曲面变得实用。

代码基于 Tungsten 渲染器,用于研究随机几何的高效渲染。

软件功能



稀疏卷积:大幅降低计算。

隐式曲面:带不确定性。

渲染器:基于 Tungsten。

应用截图