应用介绍
高斯过程隐式曲面能表达带不确定性的形状,但计算量随点数急剧增长,难以用于实际渲染。这个项目是达特茅斯学院 SIGGRAPH Asia 2025 论文的实现,用稀疏卷积让高斯过程隐式曲面变得实用。
代码基于 Tungsten 渲染器,用于研究随机几何的高效渲染。
稀疏卷积:大幅降低计算。
隐式曲面:带不确定性。
渲染器:基于 Tungsten。
代码基于 Tungsten 渲染器,用于研究随机几何的高效渲染。
软件功能
稀疏卷积:大幅降低计算。
隐式曲面:带不确定性。
渲染器:基于 Tungsten。

